Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Autor:
Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
Disponibilitate:
În depozitul extern
Expediem în 9-15 zile
400.35
lei
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...
