Carte Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Limbă: engleză
Legare: Copertă tare
Disponibilitate: În depozitul extern
Expediem în 9-15 zile
1 333.46 lei
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Informații despre carte

Limbă
engleză
Legare
Carte - Copertă tare
Publicat
2023
Pagini
496
EAN
9781032386706
Enbook ID
43909170
Greutate
662
Dimensiuni
156 x 234

Descriere completă

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

S-ar putea să te intereseze

41.05 lei
285.37 lei

Burlington

Jean M. Martin
165.13 lei
75.63 lei
781.30 lei
87.97 lei

Action Research

Jean McNiff
212.26 lei

Clienții care au cumpărat această carte au mai cumpărat și

210.84 lei
77.05 lei

Schutz vor Krebs

Dr.med. Michael Spitzbart
24.87 lei
40.24 lei
224.29 lei

Be Bop a Lu La

Carl Perkins
57.03 lei
131.86 lei
354.64 lei

Inane

Isabel Navarro Cerdán
87.57 lei

El eterno asombro

Pearl S. Buck
66.13 lei